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WS1000濕法刻蝕機應用廣泛
WS1000濕法刻蝕機應用廣泛
更新時間:2016-06-27 點擊次數(shù):2505
WS1000濕法刻蝕機
的應用非常廣泛,下面來看下它應用在哪些方面:
WS1000濕法刻蝕機應用領域
1、半導體元件、印刷線路板的清洗。
2、高分子材料表面修飾
3、生物芯片、微流控芯片的清洗
4、芯片、電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗
5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。
6、光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。
7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質的清洗。
8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。
9、增加復合材料、生物分子材料表面的結合力。
上一篇:
EDC-650顯影機的維護保養(yǎng)措施
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使用德國Diener等離子清洗機時需要注意哪些
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